Skip to content

Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и мик

Скачать книгу Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и мик doc

Большие и сверхбольшие интегральные микросхемы на современном уровне представляют последний этап развития классических интегральных микросхем, в которых можно выделить области, эквивалентные пассивным и активным элементам. Самым распространенным методом получения элементов в микросхеме разделения участков микросхемы является изоляция оксидной пленкой, получаемой в результате термообработки поверхности кристалла подложки. Монография предназначена для научных работников, занимающихся исследованием и разработкой процессов изготовления изделий микроэлектронной техники.

Быстрый рост интеграции полупроводниковых микросхем при разработке РЭА привел к созданию микросхем высокой степени сложности: Моделирование полупроводниковых приборов и технологических процессов Миллер Д. Этим методом можно получить сложные сочетания: Широко представлены результаты двумерного моделированияразличных полупроводниковых приборов, а также процессов диффузии и окисления.

Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем. И. А. Белов, В. А. Шеленшкевич, Л. И. Шуб. ISBN: ; Издательство: Политехника Страниц: Формат: 60x90/ В монографии впервые в отечественной и зарубежной литературе применен аппарат вычислительной гидродинамики для задач технологии приборостроения. Рассмотрены задачи гидромеханики, тепло- и массообмена жидкостей применительно к технологическим операциям изготовления приборов и схем микроэлектроники.

Белов И.А., Шеленшкевич В.А., Шуб Л.И. Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем. Файл формата djvu. размером 4,31 МБ. Добавлен пользователем aleuuxx Отредактирован Ленинград, Политехника, , с. - ISBN В монографии впервые в отечественной и зарубежной литературе применен аппарат вычислительной гидродинамики для задач технологии приборостроения.

Рассмотрены задачи гидромеханики, тепло- и массообмена жидкостей применительно к технологическим операциям изготовления приборов и. Моделирование полупроводниковых приборов и технологических процессов. Миллер Д. (ред.) В книге представлены доклады известных специалистов из разных стран на IV Международной конференции по моделированию полупроводниковыхприборов и интегральных схем, проходившей в июне г.

в г. Дублине.Рассматриваются вопросы моделирования электрофизических характеристик приборов и технологических процессов, применяемых при их изготовлении.  Широко представлены результаты двумерного моделированияразличных полупроводниковых приборов, а также процессов диффузии и окисления. Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем. Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем.

Белов И.А., Шеленшкевич В.А., Шуб Л.И.  Рассмотрены задачи гидромеханики, тепло- и массооб-мена жидкостей применительно к технологическим операциям изготовления приборов и схем микроэлектроники. Описаны методы расчета как ламинарного, так и турбулентного режимов течения и теплообмена для одно- и двухфазных потоков в смесительных камерах, подводящих и отводящих трактах, реакторах при различных вариантах расположения пластин.

Белов, И. А. Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем [Текст]: к изучению дисциплины / И. А. Белов, В. А. Шеленшкевич, Л. И. Шуб. - Л.: Политехника, - с. - Библиогр.: с. Термическое оксидирование мало чем отличается от типовых технологических процессов, известных при производстве полупроводниковых приборов.

В технологии кремниевых полупроводниковых микросхем оксидные слои служат для изоляции отдельных участков полупроводникового кристалла (элементов, микросхемы) при последующих технологических процессах. Литография является самым универсальным способом получения изображения элементов микросхемы на кристалле полупроводника и делится на три вида: оптическая, рентгеновская и электронная. В производстве полупроводниковых. Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем / И.

А. Белов, В. А. Шеленшкевич, Л. И. Шуб. - Л.: Политехника, - ,[1] с.: ил.; 22 см.; ISBN (В пер.): 5 р. Перед вып. дан. 3-й авт.: Шуб Леонид Исаакович Полупроводниковые приборы - Производство - Гидродинамические исследования Микроэлектронные схемы интегральные - Производство - Гидродинамические исследования FB 1 / FB 1 / CZ2 з/Б Marc Скачать marcзапись Скачать rusmarc-запись.

Моделирование гидромеханических процессов в технологии изготовления полупроводниковых приборов и микросхем (Белов И.А., Шеленшкевич В.А., Шуб Л.И.) 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62

djvu, EPUB, txt, txt